集成电路布图设计保护条例修订后的资料管理提示
中国政府网于2026年8月3日发布消息，国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，条例自2026年10月15日起施行。公开信息显示，修订内容涉及总体要求、申请与审查程序、集成电路布图设计专有权保护以及布图设计运用等方面。
对电子信息企业而言，涉及布图设计、版图文件、设计变更、委托开发和技术交付的资料，应按项目建立版本、权限和留痕管理，区分可公开资料与受保护资料。对外提供文件前，需要核对权利主体、授权范围、保密要求和留存记录，避免把内部版本或未经确认的材料当作公开信息。
条例的具体适用范围、申请材料、审查流程和权利边界，应以正式条例文本以及主管部门后续公开说明为准。本文用于提示资料管理方向，不对任何企业的权利状态、侵权风险或申报结果作判断，也不构成法律意见。
